光学系统在什么情况下需要设置渐晕，zemax中怎么设置？

songshaoman · 发表于 2024-8-21 14:42

工程光学跟应用光学里边说的比较模糊，在实际光学系统中，只见过要求不能设置渐晕的，或者要求照度的，还没见过说要有渐晕或者具体指标的。

成品光学系统只见过日本镜头专利都设置了渐晕，这算不算偷懒，降低了成像质量？
设置渐晕的时候，是自动生成还是手动设置合适？依据是什么？经验还是其他？

6512 · 发表于 2024-8-21 14:57

其实也有类似的疑问，渐晕之后，是不是某些特定的镜片边缘，对于其对应的装配件的拦光要求很严格？

xsz · 发表于 2024-8-21 16:50

本帖最后由 xsz 于 2024-8-21 16:52 编辑

设置渐晕一般能提高成像质量，但代价是降低拦光视场的相对照度，一般是设置相关镜片外拦光口径后，自动生成渐晕，并根据照度与成像质量进行适当调整

lorry95 · 发表于 2024-8-21 18:01

边缘对照度要求不高时，可通过牺牲边缘照度来提升整体像质

E1even · 发表于 2024-8-21 21:37

由于某些镜头对透镜数量、镜头总长等参数有约束，或是系统本身的限制，成像质量无法达到要求，这时只能牺牲相对照度来提高边缘视场的成像质量。

songshaoman · 发表于 2024-8-22 08:20

E1even 发表于 2024-8-21 21:37
由于某些镜头对透镜数量、镜头总长等参数有约束，或是系统本身的限制，成像质量无法达到要求，这时只能牺牲 ...

看日本的习惯，至少单反镜头那些，还是降成本为主，不惜降低成像品质，宣传的时候只说高指标，不提低的那些

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