TA的每日心情 | 开心
2024-10-25 16:49 |
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前两天正好了解到这一块的一些知识，贴上来和大家分享下，不对的地方请指正，谢谢。
Zemax中的RI是按照有效F/#来求的，有效F/#不是按照传统上的垂轴放大率修正，而是基于辐射测量原理（摘自《zemax序列成像设计指南》），即出瞳对于某一像点的“立体角投影”（好像和经典辐射测量学中的PSA类似，但我没往下查找资料），因此对于非轴对称的出瞳也是成立，定义式：
Effective F/#=sqrt(pi/A)，其中A即是投影立体角。（摘自zemax manual）
至于余弦四次方，则是在很多近似下（a thin, slow, aberration-free lens with stop at the lens），所以我觉得应该不是根本差异。
另外一点我觉得比较有意思的是，既然有效孔径和余弦四次方的推导过程中都没有讨论出瞳面上的分布，也即默认照度均匀并且出射情况一致（均匀“光源”），这应该和你说的“不关心光线的入射角”是一个意思。
就这一点来说，它和照明设计中的Etendue其实是有些类似的。
反观像面上的照度分布，尤其是按照非序列追迹的，则必须考虑到光源的实际分布。 |
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楼主: yichangshen
发表于 2016-8-15 21:29
