大家好，请教一个问题：像面均匀度和相对照度是同一个概念吗

Ussopo

yazhuge 发表于 2016-8-14 18:02
三篇文章，供你参考。

大概意思是reli只考虑了有效的光圈，并没有关心光线的入射角，而照度是与入 ...

前两天正好了解到这一块的一些知识，贴上来和大家分享下，不对的地方请指正，谢谢。

Zemax中的RI是按照有效F/#来求的，有效F/#不是按照传统上的垂轴放大率修正，而是基于辐射测量原理（摘自《zemax序列成像设计指南》），即出瞳对于某一像点的“立体角投影”（好像和经典辐射测量学中的PSA类似，但我没往下查找资料），因此对于非轴对称的出瞳也是成立，定义式：
Effective F/#=sqrt(pi/A)，其中A即是投影立体角。（摘自zemax manual）

至于余弦四次方，则是在很多近似下（a thin, slow, aberration-free lens with stop at the lens），所以我觉得应该不是根本差异。

另外一点我觉得比较有意思的是，既然有效孔径和余弦四次方的推导过程中都没有讨论出瞳面上的分布，也即默认照度均匀并且出射情况一致（均匀“光源”），这应该和你说的“不关心光线的入射角”是一个意思。
就这一点来说，它和照明设计中的Etendue其实是有些类似的。

反观像面上的照度分布，尤其是按照非序列追迹的，则必须考虑到光源的实际分布。

learner

Ussopo 发表于 2016-8-15 21:29
前两天正好了解到这一块的一些知识，贴上来和大家分享下，不对的地方请指正，谢谢。

Zemax中的RI是按 ...

两者的区别只是考没考虑实际光线的光强分布吗？

Ussopo

learner 发表于 2016-8-16 08:36
两者的区别只是考没考虑实际光线的光强分布吗？

从概念或者定义上来说应该是这样，有时间可以仿真看看，使用不同的光源分布，是否会得到预期的结果。

learner

Ussopo 发表于 2016-8-15 21:29
前两天正好了解到这一块的一些知识，贴上来和大家分享下，不对的地方请指正，谢谢。

Zemax中的RI是按 ...

Zemax序列成象设计指南这本书，有电子版吗？可以分享吗？

Ussopo

learner 发表于 2016-8-21 10:38
Zemax序列成象设计指南这本书，有电子版吗？可以分享吗？

我这只有纸质版的，应该是南京光研出的一本书

bengua8

想问一下楼主    您说的“方形像面内能量均匀度要达到90%以上的效果” 里面这个均匀度90%是如何计算的呢？有没有文献 或者计算公式？或者均匀度计算标准啥的参考下？