荧光成像技术无损探测光学元件亚表面缺陷

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                                                    荧光成像技术无损探测光学元件亚表面缺陷

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来源：光学精密工程，发表时间：2020-01-15
作者：刘红婕  王凤蕊  耿峰  周晓燕  黄进,叶鑫  蒋晓东  吴卫东  杨李茗

摘要：为了建立有效无损的亚表面缺陷探测技术，本文开展了光学元件亚表面缺陷的荧光成像技术研究，通过系统优化激发波长、成像光谱、成像光路及探测器等影响探测精度和探测灵敏度的参数，研制出小口径荧光缺陷检测样机。基于该样机对一系列精抛光熔石英和飞切KDP晶体元件的散射缺陷和荧光缺陷进行了表征，获得了各类样品亚表面缺陷所占的比重差异很大，从0.012%到1.1%不等。利用统计学方法分析了亚表面缺陷与损伤阈值的关系，结果显示，熔石英亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.907，KDP晶体亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.947，均属于强相关。该研究结果可评价光学元件的加工质量，用于指导紫外光学元件加工工艺，并且由于该探测技术具有无损、快速的特点，因此可应用于大口径紫外光学元件全口径亚表面缺陷探测，具有极其重要的工程意义。


关键词：荧光成像技术,  亚表面缺陷,  激光损伤,  熔石英,  KDP晶体

五指书生

看了到好多熟悉的作者名字。光学元件损伤问题一直是困扰大功率激光系统功率密度进一步提升的瓶颈，每年国际上还有个PLD损伤会议，已经连续开了很多年了。