lighttools面发光使用高斯分布，怎么偏移出射方向后还是该高斯分布？

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最终目的：模拟像源的照明情况，以此来分析杂散光。像源的XY方面的发光角度不一致，想用一种方法来模拟


初步想到用一个面光源斜向照明，XY方面的孔径角不同，用高斯分布来模拟，以面光源表面为参考面，XY方面的高斯角度分别设置为10°和35°。




建立简单光源模型，光源正向是 XYZ 0,0,1 ，和接收器一致。发光角度选择±20°，大于高斯发光角度以便于完全覆盖



点亮照明，使用接收器上的强度分析，超高斯分布近似于矩形分布，基本满足我的XY方向不同孔径角的需求


以上是基本情况介绍，面光源垂直于表面法线发光，得到了高斯分布。
但是，实际情况是斜向照明，主光轴方向是和面法线方向不垂直的。我用定位球面试了一下，如果绕X轴旋转20°，分布少了一半


请问有什么方式，使得发光方向改变(不垂直于面法线)，以旋转后的轴为中心，发射设置的高斯分布的光？

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ZEMAX里面有source two angle的光源，可以比较轻易地实现XY孔径角的控制和照明方向的控制，我在lighttools里面就想实现这个差不多的功能

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好像设置不行。。。。要不把面偏转点。。。