[已解决]1064nm超透镜加工专利该如何查询

风间琉璃

最近在干一个横向项目，是关于1064nm的超透镜设计和加工的，组内以前做的都是中波红外的。想问一下群里的前辈一些问题：

1.1064nm的超透镜加工参数如何设置才能加工？
目前做的是传播相位型，基底p和圆柱高度h不变，控制圆柱的直径，这个直径一般在多少nm范围内可以加工？2
2.这种类似的文献和专利该如何寻找？
在知网找了一些相关的但感觉比较少。听师兄说这种一般专利介绍的比较多还有国外的？
前辈们知道如何快速寻找超透镜类似专利？
3或者还有没有什么渠道可以快速了解这些呢？

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sunnyshine

2025-3-13 18:34

风间琉璃 发表于 2025-3-13 18:20
这里的40和20是指两种方法最低精度嘛 低于这个就加工不了是不？ 还有这个英寸数大小 会不会影响这个40 和 ...

不是说加工不了，只是无法商用化，良率太低。另外用12和8英寸两种规格的基板也是基于生产规模和成本效益，微纳结构本身最小尺寸更多的是由工艺本身的技术参数决定的，比如光刻分辨率、模板的精度。

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sunnyshine

1.切割精度：浸入式12英寸硅基/玻璃基光刻工艺 ，微纳结构尺寸40nm；纳米压印工艺，微纳结构尺寸20nm，基板尺寸8英寸。这是国内目前的加工精度。
2.现在是专利布局比较多，国内主要是迈塔兰斯、山河光电以及纳镜这几家，国外是Metalanz和NIL。搜一下这几家公司+超透镜，专利基本就能找到
3.还有渠道的话就看你们的人脉了，能不能联系上述供应商，通过官网或者私下联系都可以。

风间琉璃

sunnyshine 发表于 2025-3-13 13:07
1.切割精度：浸入式12英寸硅基/玻璃基光刻工艺 ，微纳结构尺寸40nm；纳米压印工艺，微纳结构尺寸20nm，基板 ...

这里的40和20是指两种方法最低精度嘛 低于这个就加工不了是不？ 还有这个英寸数大小 会不会影响这个40 和20呢？

sunnyshine

风间琉璃 发表于 2025-3-13 18:20
这里的40和20是指两种方法最低精度嘛 低于这个就加工不了是不？ 还有这个英寸数大小 会不会影响这个40 和 ...

不是说加工不了，只是无法商用化，良率太低。另外用12和8英寸两种规格的基板也是基于生产规模和成本效益，微纳结构本身最小尺寸更多的是由工艺本身的技术参数决定的，比如光刻分辨率、模板的精度。