Ta2O5与SiO2高反膜的损耗不稳定原因探讨

tcyt333 · 发表于 2024-11-22 11:42

我用离子束溅射镀制的高反膜，刚镀出来时损耗很大，在高温炉里面退火后再测损耗就变得很小了，这是一个什么变化机理呢？在激光器上工作几小时后损耗变大，重新退火又变小了，如此反复又是什么机理呢？

sunnyshine · 发表于 2024-11-22 13:01

我帮你问了一下AI，有一定意义可以参考。一般这种退火的工艺就是去应力以及让膜层的分子重新排列，这一点回答还是蛮好的。

tcyt333 · 发表于 2024-11-26 17:34

sunnyshine 发表于 2024-11-22 13:01
我帮你问了一下AI，有一定意义可以参考。一般这种退火的工艺就是去应力以及让膜层的分子重新排列，这一点回 ...

谢谢您的帮助！

目前我已试验了在镀制过程中加大离子束流、降低本底真空度、增加通氧流量等工艺措施，但未得到较好改善。请问有没有其他的改善方向和措施方法呢？

sunnyshine · 发表于 2024-11-27 08:53

其实也没有帮助多少，我对镀膜了解的不多。再帮你找AI问了一下，你看看还有没有合适的方案。

tcyt333 · 发表于 2024-11-27 09:13

sunnyshine 发表于 2024-11-27 08:53
其实也没有帮助多少，我对镀膜了解的不多。再帮你找AI问了一下，你看看还有没有合适的方案。 ...

您的回复非常棒，指导性很强，接下来我再试验几次看看效果，谢谢您！！！

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