zemax中默认评价函数的几个类型有什么区别？

千寻瀑

对于点列图优化，有一下四种选择方式，他们有什么细微的区别？分别应用在什么情况下啊？

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RMS波前误差：衡量波前的均方根误差。通常用于表征光学系统像差，对成像质量的整体评估非常重要。适用于需要优化整体像质的系统。


点列图：评价光斑的分布和大小。适用于需要优化点光源成像性能的系统，尤其是系统的分辨率和成像清晰度。

对比度：描述光学系统传递对比度的能力。适用于需要详细了解和优化成像系统的空间频率响应的应用。


关于点列图优化，Zemax提供了四种选择方式，每种方式适用于不同的情况：

RMS半径：优化光斑的均方根半径。适用于需要将光斑能量集中在最小范围内的系统。这种方法最常用于一般成像系统的初步优化。

最大半径：优化光斑的最大半径。适用于需要确保光斑不会超出特定范围的系统，通常在高容差系统设计中使用。

等效均方根半径：考虑光斑中的实际能量分布，优化等效光斑半径。适用于需要精确优化光斑能量分布的系统。

几何均方根半径：基于几何光学的均方根半径优化。适用于对几何像差更敏感的系统，尤其在初始设计阶段。

每种选择方式有其特定的应用场景。总体来说，RMS半径和最大半径在常规优化中使用较多，而等效均方根半径和几何均方根半径则在需要精确控制光斑能量分布或几何像差的特殊场合中使用。

通过选择适合的评价函数和点列图优化方式，可以根据具体的光学系统设计需求，进行更有效的优化和性能提升。