1，杂散光路径。我看大家挺多都是加滤光片来分析杂散光路径的。论文里则经常提及正向追迹的照射表面和反向追迹的关键表面，分析这两类表面来得出杂散光路径。我看了有一会了，就是看不明白。我感觉用滤片和ZEMAX的字符串，实现的是同样的效果吧？其次，正向追迹的照射表面，给我一种鬼像分析的感觉，而设置正向追迹的方式，不同离轴角的平行光，这和PST的设置方式也一样，好像也和一般的杂散光分析设置光源方式差不多？反向追迹的话，又给我一种红外冷反射的感觉。想问问序列模式下，倒置后怎么设置孔径类型反向追迹啊？这里杂散光是用非序列，朗伯分布的面光源。
2，关于鬼像。好像closest to pupil 和closest to image是比较重要的，两个distance和主光线高以及边缘光线高的意义和作用有人讲讲吗，不太明白。
目前总结的就是，让两个closest大一点，大于0.1好像？消鬼像的方式就是AR膜，如果有外壳的话，再加消光漆和螺纹。单纯的光学系统的话除了AR，就是手动把半径调大点，或者把入射角优化。想问问ZEMAX怎么优化鬼像呢。
发表于 2022-7-3 16:26
