关于用不同方法模拟鬼像以及杂光时，模拟出来的照度图显示差别很大的问题

zyt

大家好，我最近在学习模拟鬼像，也尝试给镜片进行结构设计之后模拟鬼像。现在出现了问题。
如下图所示。模拟的是4P的镜头。
方法一：当直接将CodeV文件转为LT之后的鬼像照度图为图1所示。图2为模型图
方法二：将CodeV文件转为Zemax文件，之后再将zemax转为CAD文件，进行结构内部设计，之后将CAD文件转为Proe文件进行三维模型建立，最后导入到LT中模拟带结构件的杂光。照度图为图3所示。图4为模型图
两种方法的其他参数均相同。
我认为用方法一模拟的结果是比较正确的，但是用方法二模拟杂光之后，发现中心视场的照度值相对于用方法一模拟鬼像之后的中心视场的照度值减小了一个数量级。并且加入结构件之后的中心视场附近的照度值显示在图中也很大。
想请大家帮忙解决一下是什莫问题？
如何做才能使用方法二模拟的杂光结果和方法一模拟的结果可以进行参考。

doris

可以看下两次设置的光源大小，光线数量和光源入射功率是否都一样

zyt

doris 发表于 2021-3-10 17:10
可以看下两次设置的光源大小，光线数量和光源入射功率是否都一样

这些参数都是一样的，我之前对比过了。

有没有可能是第二种方法转换的次数太多了。
从zemax转为CAD时，是将非球面有效径等分成了20多条小线段完成的。然后我又在CAD转Proe时，将这些小线段转为了样条曲线的形式（因为之前尝试过，不转为样条曲线的话，直接转到LT中，非球面部分会分成很多的小曲面，模拟之后的结果也是不正确的）。之后再导入到LT中进行模拟。这种做法可行吗？

doris

zyt 发表于 2021-3-10 17:15
这些参数都是一样的，我之前对比过了。

有没有可能是第二种方法转换的次数太多了。

不太清楚，之前试过zmx转stp转LT分析，没发现这个问题。如果怀疑是转太多次模型不对了，可以用NSray追迹看下是不是聚焦到成像面上。

3万岁

两者除了数据之外的设置相同前提下，应该是数据转换导致的，你每次转的格式是什么？stp吗

萌新小透明

zemax直接导出的是曲率半径吧，你导出来后，在cad中修改面型了吗

zyt

萌新小透明 发表于 2021-3-10 22:42
zemax直接导出的是曲率半径吧，你导出来后，在cad中修改面型了吗

不是直接导出的，是用的论坛中的一个程序，导出之后，就是非球面面型，只不过非球面部分分割成了20多段小线段

wcb101707

方法二中，codev转ZEMAX后，试一下直接按照ZEMAX参数，在Lighttools建模，看一下结果差异

zyt

wcb101707 发表于 2021-3-11 08:57
方法二中，codev转ZEMAX后，试一下直接按照ZEMAX参数，在Lighttools建模，看一下结果差异

你好，我刚才尝试了，直接从Zemax转成LT之后，结果与方法一是类似的。如图

wcb101707

zyt 发表于 2021-3-11 10:55
你好，我刚才尝试了，直接从Zemax转成LT之后，结果与方法一是类似的。如图

那就说明codev转到ZEMAX，没什么问题，可能是转到CAD，proe结构软件中，软件对数据的精确度有差异造成的