深紫外光刻照明系统微反射镜阵列公差分析

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深紫外光刻照明系统微反射镜阵列公差分析

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来源：光学学报，发表时间：2020-01-10
作者：尹超 李艳秋 闫旭 刘克 刘丽辉


摘要：为满足45nm及以下节点光刻技术对照明系统的需求,深紫外(DUV)光刻照明系统光束整形单元采用微反射镜阵列(MMA)作为关键器件,以实现光源-掩模联合优化技术(SMO)需求的任意照明光源。为了保证系统达到预期照明性能的情况下能够实际加工制造,需对MMA角度参数进行公差分析。根据MMA结构参数以及加工制造调整特性,分析MMA角度误差类型。在此基础上,利用蒙特卡洛公差分析法模拟实际加工制造调整的过程,通过分析微反射镜角度误差对曝光结果的影响,制定了满足曝光要求的角度公差。结果显示,当MMA在正交方向上存在的角度调整公差和加工角度公差分别在(±0.04°,±0.06°)、(±0.04°,±0.04°)范围内,系统曝光得到的特征尺寸误差(ΔCD)在98.1%的置信概率下小于0.33nm。


关键词：光学设计; 公差分析; 微反射镜阵列; 深紫外光刻;