本帖最后由 匿名 于 2019-9-29 14:19 编辑
论坛大神们好,近来有空做了下19年Zemax设计大赛的题目,希望给点建议和指点,谢谢。 本次大赛便依托Nittoh的一个专利设计展开的44*33mm中画幅镜头设计,旨在探索中画幅相机镜头的设计边界。 http://www.optzmx.com/forum.php?mod=viewthread&tid=11222&highlight=%B4%F3%C8%FC 设计指标
- 需保证,在FdC自然光下,最近对焦位置近摄比为2:1或者更近,镜头总长度不超过180mm,最后一片镜片到CMOS保护玻璃的距离不小于20mm,任何一片镜片直径不大于传感器对角线,在对焦远摄端轴上F/#不大于4.5,在对焦远摄端半视场角为13.5±0.5°,镜头畸变控制在3%以内,正确设置多重结构分析对焦位置,正确使用渐晕,保证镜片的可加工性,且像质与专利中所述的相当或优于。
- 成像质量要求针对SONY IMX461一亿像素传感器进行设计。该传感器单像素尺寸为3.76*3.76um。在该探测器50% Nyquist频率处要求中心视场MTF不低于0.2且所有视场MTF未发生截断。
- 极限推进近摄比,目标能够达到1:1
- 极限推进F/#,目标能够在远摄端达到中心视场F/2.8,且边缘视场相对照度始终不低于30%。
有如下问题:
①专利上的这几个评价是什么意思?(球面收差?非点收差?畸变?)
②焦外"洋葱圈"跟焦外二线性是否同一样东西? “洋葱圈”是非球面精度引起,它的现象跟焦外二线性的现象,我感觉是不一样的东西,但是网上有些人是同一回事。 在设计时是怎么评价的?是看焦外弥散斑图吗? 焦外色差呢?
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