求助：传统古典抛光和环抛的区别

不会取名

求助各位大佬，请问在单面抛光的情况下（其中一面需要做保护），古典抛光和环抛哪种能使平行平板达到更高的厚度均匀性（＜1μm）？二者的适用场景有什么区别？

电子厂女工XP

古典抛光法：光学零件与抛光盘之间的相对运动，低速抛光，优点是抛出来的光学零件面形精度高，即表面粗糙度好；环抛：光学零件上下两面都与抛光盘发生相对运动，如果是追求平行平板的厚度均匀性，环抛更合适；前提是上下抛光盘的水平度要足够好

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电子厂女工XP 发表于 2025-1-9 09:12
古典抛光法：光学零件与抛光盘之间的相对运动，低速抛光，优点是抛出来的光学零件面形精度高，即表面粗糙度 ...

谢谢答疑。我又有了新的困惑，您说环抛有上下抛光盘是指双面抛光的情况吧，如果是单面抛光只抛下表面的情况，这个厚度均匀性的结论还适用吗？