Ta2O5与SiO2高反膜的损耗不稳定原因探讨

tcyt333

我用离子束溅射镀制的高反膜，刚镀出来时损耗很大，在高温炉里面退火后再测损耗就变得很小了，这是一个什么变化机理呢？在激光器上工作几小时后损耗变大，重新退火又变小了，如此反复又是什么机理呢？

sunnyshine

我帮你问了一下AI，有一定意义可以参考。一般这种退火的工艺就是去应力以及让膜层的分子重新排列，这一点回答还是蛮好的。