超构透镜加工

苏化

最近设计了一个超构透镜，在联系微纳加工平台加工，有一些体会：

1. 基于传输相位，比如圆柱，本来半径变化范围就小，由于加工误差的限制，采样步长又得很大，而且还有深宽比限制；
2. 使用EBL来加工，深宽比可以稍微大一些，但是很贵，加工一个样片要好几万。
3.使用纳米压印的话，深宽比就很小了。
所以超构透镜真的能落地吗？
(好像基于几何相位深宽比可以小一些。）

Lambda

之前咨询过专门做nanoimprint的，据他们所说深宽比最大能到10:1的高保真度，不过我估计这也只是针对于光栅结构，比较容易剥离

苏化

Lambda 发表于 2024-4-25 09:57
之前咨询过专门做nanoimprint的，据他们所说深宽比最大能到10:1的高保真度，不过我估计这也只是针对于光栅 ...

10:1应该是EBL，纳米压印只能5:1，我这边咨询的情况是。

dxp19952023

你说的情况都是真实的。不过还有一种思路，就是纳米压印完成批量图形转移，然后批量刻蚀。你上面说的EBL其实也只是做图形转移用的，深宽比最终还是由刻蚀来决定。另外，纳米压印来做图形转移+刻蚀还有材料限制，基本上都是低折射率的材料

这个光栅不闪耀

纳米压印批量生产超构透镜，这个好像韩国有个课题组一直在做，而且取得的效果还很好。
考虑用EBL做掩模板后续接刻蚀的话，那应该就很难批量化加工了。而且考虑后续刻蚀如果是可见光波段的超构透镜，可能就更难批量化加工了。实验室做还是可以的，有很多高校里面做的超构透镜深宽比都很大，像南大的，这还是和设备有关的。
另外还有别的方式，用激光直写，这个也可以做。
超构透镜应该还是能够落地的，但是需要半导体加工技术进一步发展，大洋彼岸那边其实做的就很好了，也有对口的公司。
另外，如果不追求宽带，只考虑单个波长或者窄波段的话，深宽比可以放低不少，加工起来还行。
再另外，前几年做金属的那种反射式超构透镜，加工也要比透射式介电型的要简单。（当然，也有金属做透射式的，只是效率低）