激光直写系统能写什么？涡旋光 偏振光栅

M78客

激光直写系统利用偏振态可调的激光光束对基底表面的双折射材料实施曝光。通过控制曝光光斑尺寸及光束偏振方向改变基底上液晶分子排布，曝光后显影便可以在基底表面形成对应的微纳结构图案。激光直写有两种曝光方式：一维曝光和二维曝光。
一维曝光是以单个圆环或直线为单位进行图案绘制。

二维则是以单个像素为单位进行图案绘制的。

LBTEK激光直写系统可以将液晶分子的快轴以0.3°的分辨精度固定到任何角度，适用于制备平面透镜、偏振光栅、涡旋波片、艾里光束发生器、匀光器、相位板、分束器、图形发生器等各种微纳光学元件，能够处理复杂相位。在偏光显微镜下可观察到结构细节，如上面图中右侧小图所示。这一系统不仅能做各种研究用器件，也能做出漂亮的风景画，可用于视觉设计。如果您向供所需图案化的微纳光学元件图纸，或快轴分布的数据文件，可以为您定制几乎任何图案化微纳光学元件。希望多多交流算法，丰富种类