新BTOL宏代码如下:
CHG
NOP
END
BTOL 2 !设置置信区间
EXACT INDEX 1 3 5 !表面1,表面3和表面5的折射率是精确的
EXACT VNO 1 3 5 !表面1,表面3和表面5的V-number是精确的
TPR ALL ! 假定所有表面与光学样板匹配
TOL WAVE 0.1 !最大波前变化值为0.1
ADJUST 6 TH 100 100 !调整表面6的厚度,第一个数字100是指一组移动的表面数目;第二个
数字100是指允许的最大调整值;
PREPARE MC !自动准备一个调整文件,以便后续的MC运行需使用该文件来检查统计信息
GO !BTOL输入文件的最后输入,并执行程序
STORE 4 !透镜结果储存在透镜库的位置4
运行BTOL宏之后,公差稍微宽松一点,如下图:
接着,运行MC程序来检查透镜情况。在CW中输入:SYNOPSYS AI> MC 50 4 QUIET -1 ALL 5;此命令将会测试一批储存在透镜库4中的50片透镜,按照上述预计公差来制作透镜,然后监控比较这一批透镜的统计数据,将最坏的透镜情况保存在透镜库位置5。
在CW窗口输入:MC PLOT,得到MC直方图:
现在测试最坏的透镜。点击 ,在CW中输入GET 5,即将MC最坏的透镜放在ACON2中,如图5所示。
图5 MC最差透镜情况。必须制造调整。
于是,对保存在透镜库4的透镜进行制造调整。使用FAMC指令(FAMC是制造调整MC)分析统计数据。代码如下:
FAMC 50 4 QUIET -1 ALL 5 !测试透镜库4中的50片透镜,按照预计公差来制作透镜,然后监控对比所有透镜质量,将最坏透镜结果保存在透镜库5
PASSES 20 !对第一阶段(PHASE 1)优化的迭代次数
FAORDER 5 3 1 !透镜制造序列,按难度排序,最复杂的透镜放首位
PHASE 1 !第一阶段,优化透镜参数
PANT
VLIST RAD 1 2 3 4 5 6
VLIST TH 2 4 6
END
AANT
GSO 0 1 5 M 0
GNO 0 1 5 M 1
END
SNAP
EVAL !必须以EAVL结束,第一阶段已经将透镜公差应用于透镜本身,然后依次完成所有透镜制作
PHASE 2 !第二阶段,只优化不包括在第一阶段中的透镜参数和评价函数
PANT
VY 3 YDC 2 100 -100 !改变表面3的Y方向偏心,上限为2,下限为100,增量为-100
VY 3 XDC 2 100 -100 !改变表面3的X方向偏心
VY 5 YDC 2 100 -100
VY 5 XDC 2 100 -100
VY 6 TH !改变表面6的厚度
END
AANT
GNO 0 1 4 M 0 0 0 F
GNO 0 1 4 M 1 0 0 F
END
SNAP
SYNO 30
PHASE 3 !第三阶段;当遇到第三阶段的输入,程序循环整个过程
运行代码之后,得到带有制造调整的MC的最差透镜情况,如图6所示。
图6 带有制造调整的MC最差透镜情况。
再次在CW中输入MC PLOT,得到MC直方图:
相应的局部放大轴上视场直方图
打开MPL对话框设置后,透镜元件2的ELD绘制出图:
打开MPL对话框设置后,点击DWG得到透镜装配图,图中添加了空气间隙,倾斜角,还有偏心公差: